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本帖最后由 新ちゃん 于 2021-11-28 00:18 编辑
前言
2020,沧海横流,疫病横生,偏偏此时国际关系剑拔弩张。以中美摩擦为剧,一时间火花四溅,骇浪惊涛。
从中兴通信事件为始到516华为全面进入实体清单,此间已二年有余,中美关系逐步从长期的进出口互惠,走向科技领域的全面对抗。
尤其以半导体为首的科技产业被推入风口浪尖,甚至一个企业,便要承受一个国家的命运和担当。
作为产程密集度、工业自动化程度、技术密集度最高,代表人类最顶级智慧结晶的行业,半导体产业的低国产化、低自给化和产业中低端化,成为此次美国掣肘中国的利剑。
高端芯片不能自给,产业链环节缺失和结构倒挂,让中国的半导体产业成为此次中美对抗的阿喀琉斯之踵。 电子设计自动化—— Electronic Design Automation,简称EDA,是芯片设计最上游、壁垒最高的部分,却是国内芯片产业几乎最薄弱的环节,被强行推向舞台中央。
作为产业中枢和设计之母,EDA承载起中国半导体产业生态的塑造之路,其产业位置之重要,见微知著:
- 以设计自动化为题,EDA以计算机辅助设计(CAD)为桥梁,嫁接超大规模集成电路(VLSI)设计中所涉及的功能设计、综合、验证、物理结构(布线、布局和版图)等流程的全制;
- 以芯片设计生态为题,EDA发展的产业生态基础,嫁接了代工厂对于产业上下游的理解,培植高端芯片设计公司,是形成整套半导体系统生态的中枢神经;
- 以半导体生态为题,EDA作为半导体产业的发展杠杆,将会孕育整个半导体后摩尔时代的产业发展路径。以摩尔定律为代表的物理极限被打破,使得配套的设计工具和软件服务,决定了产业未来的发展路径和天花板。
01历史观澜:EDA的前世今生
集成电路作为整个半导体产业的核心,其技术设计的复杂性,产业结构的专业化,使得一套完整的EDA软件成为刚需,较之前有限的晶体管布局和布线难度,现有集成电路设计之繁杂,规模之巨大,均不是单纯人力范围所能覆盖。
EDA出现之前,传统设计人员必须通过手工完成设计和布线等基础工作,彼时前沿的工程师,不过是使用集合方法制造用于电路光绘的专用胶带(Photo plotter)便可满足需求。
EDA作为高阶的电子设计自动化,并未在彼时呼之欲出,取决于传统集成电路的复杂程度仍较原始,半导体工业仍延续粗放生产。
随着数据的快速扩张导致计算量的极限增长,手工设计愈发吃力。为了配合工程师的需求,自动完成掩膜草图开始出现,提供电路布局和布线的研发工具雨后春笋般出现在设计人员的视野中。
真正的突破出现在1980年,加州理工学院教授Carver Mead和全录帕洛阿尔托研究中心的程式设计师Lynn Conway共同发表了一篇具有划时代意义的论文《超大规模集成电路系统导论》 (Introduction to VLSI Systems)。
这篇论文将编程语言构建芯片设计的新思想推向世界。以此成果编写的《VLSI系统简介》成为当时标准的课堂教材,在超过一百所高校里使用。 (两位在1981年被Electronics期刊评为年度成就奖)
具体展开,EDA到底在芯片设计中扮演着怎样的重要角色?
芯片设计分为前端和后端,前端调节芯片逻辑,后端完成物理实现。
二者清晰划分但并不严格切分界限,涉及一切工艺相关则统一划分为后端,前端则对芯片门级网表电路进行逻辑梳理,一则实现对芯片的功能定义,二则为功能实现行为寻找物理路径,最终形成布局规划和逻辑输出。
芯片设计的过程,就是工程师利用程式码规划芯片功能的过程。而通过EDA工具,工程师得以将程式码转化成为实际电路设计。
再具体一点: 工程师向EDA提供完整的HDL code(Hardware Description Language,硬件描述语言代码); EDA会根据逻辑闸设计图的规格对该代码进行修改和调整,生成功能正确的电路图; 最后供给后端进行布局模拟和电路制作,形成光罩,然后流片成产品。
(EDA三巨头之一Cadence的产品界面展示)
作为逻辑综合工具的EDA,不仅为设计的逻辑闸提供意见的修改,其更重要的价值是在SoC(System on Chip,系统级芯片)数以亿计的今天,大幅度地降低了设计试错成本。
大规模集成电路的复杂度,已经远超人类设计仿真的控制极限。因此,在动辄流片费用百万千万计的今天,任何一家芯片公司都无法承受数次流片失败的成本。设计环节的丝毫差错,都可能导致巨大的财务损失。
EDA的出现,至少将此成本缩减超百倍。
随后,集成电路的布道者们开始大肆宣传集成电路与承载的人类命运,几乎和集成电路所能承载的复杂程度直接关联。这在当时看起来几乎荒诞的理论,在40年后的今天一语中的 ——
通过编程语言设计和验证电路预期行为,并通过逻辑综合工具软件得到低抽象级物理设计的研发途径,迄今为止仍然是数字集成电路设计的思想基础和工程基础。
在这个基础之上,EDA的商业化在上世纪80年代高速发展: 1981年,日后主宰全球EDA市场的三大巨头之一Mentor Graphics悄然诞生,日后名声飞扬的Xpedition、PADS、Mentor EE均诞生于此; 1986年,Gateway提出Verilog,这是迄今为止最流行的高级抽象语言; 同年,三巨头之二Synopsys诞生于美国加州Mountain View; 1987年,美国国防部资助的VHDL(Very-High-Speed Integrated Circuit Hardware Description Language,超高速集成电路硬件描述语言)问世,将设计实体分为内外部份,日后被广泛应用于机械工程、仪器科学和计算机科学中; 1988年,第三家巨头Cadence诞生在美国加州San Jose。
产业规模的急速扩张和竞争逐步加剧,导致分工模式进一步细化。
EDA犹如达摩克斯的利剑,精确切分原来由IDM (Integrated Device Manufacturer,集约化制造商)主导的半导体产业生态,逐步演化成了Fabless(无工厂仅设计) + Foundry(代工厂) + OSAT(Out Sourced Assembly and Testing,封测代工厂)的产业格局。
后来耳熟能详的IC设计、IC制造和IC封装,三大核心板块逐渐形成。 (来源:电子产品世界EEPW)
因为EDA,产业生态的上中下游,第一次被清晰的展现出来。
“当价格不变时,集成电路上可容纳的元器件的数目,约每隔18-24个月便会增加一倍,性能也将提升一倍。” ——戈登·摩尔(英特尔创始人之一)
摩尔定律作为半导体行业的金科玉律已运转多年,应验了无数半导体发展的重大时刻,并像圣经一般,收敛了整个芯片产业上下游的发展和演化规律,使其达到了实质意义上的统一。
而EDA的迭代,数年来也追随摩尔定律有序发展,承载了人类迄今为止超大规模集成电路的设计,发展和产业化演进。
但凡事终有极限,物理性征的限制,使得摩尔定律大有被替代更新的趋势。
在2019年人类撬开7nm大门后,传统EDA支撑下的IC设计遭遇瓶颈,对复杂设计的不断追求和提升集成电路性能,并缩小尺寸的要求进一步提升。
如何在EDA上追赶并超越摩尔定律,成为人类触碰下一代超大规模集成电路的核心要素 —— AI,物联网和虚拟现实等技术的不断更迭,人类对集成电路的要求也越发提升,对EDA的智能型要求也愈发提升。
以IT产业为例,手机和服务器为代表的设备更替周期从2010年全面到来至今年为止,人类社会对智能手机、大规模数据中心的替代基本结束。下一代智能终端包括和5G相关的各类硬件及软件工具将再一次带来设备更迭的产业浪潮。 (全球EDA市场区域分布,来源:Transparency)
因此,对集成电路的要求、设计复杂度的要求和可靠性的要求将更胜彼时,定制化、高个性化、私有化的要求也会随着产业周期的变革愈发高涨。
EDA工具除了设计,服务能力和智能化程度,必然会进一步划分EDA市场的终极格局和生态构成。 |